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一种中空多孔型阿特拉津分子印迹材料的制备方法

专利(申请号):CN201611121567.X

行业分类:包装印刷-印刷

专利类型:发明专利

法律状态:专利权维持

转让方式:完全转让

专利价格:面议

丁子福

湖北武汉市东西湖区

服务承诺
产权明晰
资料保密
如实描述
安全保障

专利简介

本发明涉及一种中空多孔型分子印迹材料的制备方法,包含以下步骤:a.投料;b.反应;c.洗脱,即得到本发明的中空型分子印迹材料。本发明以成本极低的碳酸钙为聚合载体,通过简单的酸洗过程即可获得具有良好通过性的分子印迹材料,该材料在用做固相萃取填充物时,可避免因通过性不好而导致较大的负压,从而大大减少萃取时间;同时,本发明制备的印迹材料因其中空多孔的特性,而具有较大比表面积,使得材料具有更多的结合点位和吸附能力。相对于现有技术,该制备方法并不增加过多的制备程序,材料成本低,并可方便的扩展应用于其他各种分子印迹材料的制备过程。

交易流程

主办单位:武汉轻工大学

技术支持:厦门科易通宝网络科技有限公司

客服热线:400-649-1633

工作日(8:30—21:00)

节假日(8:30—12:00 13:30—17:30)

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